特許

J-GLOBAL ID：200903091620975037

マスク及びマスクの製造方法、表示装置の製造方法、有機EL表示装置の製造方法、有機EL装置、及び電子機器

発明者： 桑原 貴之 ,  四谷 真一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-386511
公開番号（公開出願番号）：特開2005-146361
出願日： 2003年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】 貫通穴を有するマスクを使ってパターニングする際、マスクや蒸着対象物の変形等の影響を低減しつつ良好にパターニングできるマスクを提供する。【解決手段】 マスクMは、貫通穴20を有する基板10と、基板10の表面1に設けられ、基板10の形状を制御する膜30とを備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

貫通穴を有する基板と、前記基板の表裏面のうちの少なくとも一方に設けられ、該基板の形状を制御する膜とを備えたことを特徴とするマスク。

IPC (3件)：

C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (15件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA07 ,  4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 有機発光素子、その製造装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-274326   出願人：三洋電機株式会社
• 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-367123   出願人：三洋電機株式会社
• 真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びEL素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-230708   出願人：日本ビクター株式会社
• マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-114682   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (2件)

• 真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びEL素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-230708   出願人：日本ビクター株式会社
• マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-114682   出願人：セイコーエプソン株式会社