特許
J-GLOBAL ID:200903091634046756
無電解スズメッキ浴の分割保存方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
豊永 博隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-070858
公開番号(公開出願番号):特開2004-277814
出願日: 2003年03月14日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】無電解スズメッキ浴の保存に際して、保存時の長期安定性とメッキ使用時の経時安定性を共に良好に保持する。【解決手段】無電解スズメッキ浴のうち、分解可能性のある成分を含む第1液と残りの成分を含む第2液に分割保存し、或は、上記分解可能成分を第1液と第2液に分割するとともに、第1液には分解可能成分のみ又はさらに他の成分を加えて保存し、第2液にさらに残りの浴成分を加えて保存し、使用時に第1液と第2液を混合してメッキ浴を建浴する分割保存方法である。この場合、分解可能成分の次亜リン酸類を第1液に適量下限以上の少量(例えば、0.01〜0.15モル/L)で可溶性第一スズ塩と共に保存し、第2液に残量分の濃厚な次亜リン酸類と残りの浴成分を保存する方法が好ましい。この偏量保存では、次亜リン酸類に替えて、チオ尿素類を適用することもできる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
無電解スズメッキ浴のうち、分解可能性のある成分を含む第1液と残りの成分を含む第2液に分割保存し、
或は、上記分解可能成分を第1液と第2液に分割するとともに、第1液には分解可能成分のみ又はさらに他の成分を加えて保存し、第2液にさらに残りの浴成分を加えて保存し、
使用時に第1液と第2液を混合して、無電解スズメッキ浴を建浴することを特徴とする無電解スズメッキ浴の分割保存方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4K022AA02
, 4K022AA32
, 4K022AA41
, 4K022BA21
, 4K022BA35
, 4K022DA01
, 4K022DB02
, 4K022DB04
, 4K022DB05
, 4K022DB07
, 4K022DB08
引用特許:
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