特許
J-GLOBAL ID：200903091638039703
薄膜形成方法及び成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-050226
公開番号（公開出願番号）：特開2003-253450
出願日： 2002年02月26日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 均一で純度の高い薄膜を大気圧中で簡単に形成する方法及びその成膜装置を提供する。【解決手段】 被処理体上に薄膜を形成する本発明の薄膜形成方法は、(1) 液体原料35を霧化させ、(2) 生成したエアロゾルをキャリアガスとともに反応容器1に送給し、(3) 反応容器1内の温度を被処理体20の温度より高くし、(4)熱分解・酸化反応により生成した膜成分微粒子を被処理体20上に付着させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理体上に薄膜を形成する方法であって、(1) 液体原料を霧化させ、(2) 生成したエアロゾルをキャリアガスとともに反応容器に送給し、(3) 前記反応容器内の温度を前記被処理体の温度より高くし、(4) 熱分解・酸化反応により生成した膜成分微粒子を前記被処理体上に付着させることを特徴とする薄膜形成方法。
Fターム (11件)：
4K030AA03
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030BA11
, 4K030BA16
, 4K030BA42
, 4K030EA01
, 4K030FA10
, 4K030JA10
, 4K030LA18
