特許
J-GLOBAL ID：200903091658029143

膜厚測定装置およびそれを用いた基板処理装置

発明者：
楠田 達文

楠田 達文 について

, 
高村 幸宏

高村 幸宏 について

, 
黒岩 徹

黒岩 徹 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-294361
公開番号（公開出願番号）：特開2003-097919
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：
【要約】【課題】測定対象の膜が静止していなくともその膜厚の測定を可能とする。測定対象の膜の表面に処理液が存在している状態でも膜厚の測定を可能とする。【解決手段】投光用光ファイバ51からの光は、ハーフミラー73で反射されてウエハWの表面に導かれる。ウエハWの表面からの反射光は、アクロマティックレンズ72、ハーフミラー73を透過し、さらに全反射ミラー74で反射された後、ディフューザ75で拡散均一化されて、受光用光ファイバ54に入射する。【効果】ウエハWが回転していても、また、ウエハWの表面に処理液が存在していても、受光用光ファイバ54に安定な光量の光を入射させることができる。
請求項（抜粋）：
測定対象の膜に対して光を照射する投光部と、測定対象の膜からの反射光を受光する受光部と、測定対象の膜から上記受光部に至る受光路に介装され、測定対象の膜からの反射光を拡散均一化して上記受光部に向けて出射するディフューザとを含むことを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (2件)：
G01B 11/04 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01B 11/04 Z ,  H01L 21/66 P
Fターム (27件)：
2F065AA30 ,  2F065BB03 ,  2F065BB16 ,  2F065BB21 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065CC32 ,  2F065DD06 ,  2F065HH11 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065LL49 ,  2F065LL67 ,  2F065MM04 ,  2F065PP13 ,  2F065PP22 ,  2F065TT02 ,  2F065UU07 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA21 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH40 ,  4M106DH55
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM