特許

J-GLOBAL ID：200903091681157701

露光方法及び露光装置

発明者： 佐藤 由博 ,  甲斐 潤一 ,  上村 貢 ,  前田 龍治 ,  浦口 雅弘
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-228124
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074677
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 露光方法及び露光装置に関し、レーザ描画方式露光におけるエッジ精度を改善する。【解決手段】 基板1上に描画されるパターン群の予め設定した方向にレーザ光の走査方向を合わせて露光を行なう。

請求項（抜粋）：

レーザ描画方式の露光方法において、描画されるパターン群の予め設定した方向にレーザ光の走査方向を合わせて露光を行なうことを特徴とする露光方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 529

引用特許：

審査官引用 (15件)

• 画像出力記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172820   出願人：富士通株式会社
• 特開昭63-050841
  
• 特開昭63-050841
  
• 特開昭61-251032
  
• 特開昭61-251032
  
• 特開昭56-017016
  
• 特開昭56-017016
  
• 電子ビーム露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-275185   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭54-150082
  
• 特開昭54-150082
  
• 特開昭55-055534
  
• 特開昭55-055534
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-242187   出願人：キヤノン株式会社
• ラインジェネレータを用いた電子線描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-163485   出願人：株式会社日立製作所
• 荷電粒子ビーム露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-281877   出願人：富士通株式会社