特許

J-GLOBAL ID：200903091921927089

基板乾燥装置

発明者： 李 憲 定
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (3件)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-195225
公開番号（公開出願番号）：特開2006-024931
出願日： 2005年07月04日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：

【課題】 基板乾燥装置を提供する。【解決手段】 本発明の乾燥装置は、処理室120または配管内の所定の領域でIPA蒸気の濃度を検出する測定部200を有する。測定部200は発光部、検出部、およびウィンドウ部を有し、ウィンドウ部はIPA蒸気によって吸収される波数領域の赤外線を透過し、測定領域を流れる流体によって浸食されない材質からなる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

基板を乾燥する装置において、 乾燥ガスを利用して基板を乾燥する処理室と、 前記処理室の測定領域を通過する乾燥ガスの濃度を測定するための測定部と、 測定された乾燥ガスの濃度に従って前記処理室に提供される乾燥ガスの量を調節する制御部と、を含むことを特徴とする基板乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  F26B 21/06 ,  F26B 21/14

FI (4件)：

H01L21/304 651L ,  H01L21/304 651H ,  F26B21/06 ,  F26B21/14

Fターム (6件)：

3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA12 ,  3L113DA01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第5829156号明細書
  
• 米国特許第5054210号明細書
  
• ウェーハ乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-146975   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (2件)

• 洗浄乾燥方法および洗浄乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-268672   出願人：株式会社小松製作所
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-358323   出願人：大日本スクリーン製造株式会社