特許
J-GLOBAL ID:200903091929953771
MOS型トランジスタ及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 坪井 淳
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-183365
公開番号(公開出願番号):特開2004-031515
出願日: 2002年06月24日
公開日(公表日): 2004年01月29日
要約:
【課題】本発明は、オン抵抗の低減、生産性の向上を図ることを課題とする。【解決手段】リードフレーム21と、このリードフレーム21に搭載されたペレット24と、ソース、ドレイン及びゲート用リード端子22,28,29と、前記ペレット24を樹脂封止する外囲器と、前記ペレット24とソース用リード端子29を少なくとも接続する平板状のコネクター27とを具備することを特徴とするMOS型トランジスタ。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
リードフレームと、このリードフレームに搭載されたペレットと、ソース、ドレイン及びゲート用リード端子と、前記ペレットを樹脂封止する外囲器と、前記ペレットとソース用リード端子を少なくとも接続する平板状のコネクターとを具備することを特徴とするMOS型トランジスタ。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L23/48 S
, H01L23/48 M
引用特許: