ArFエキシマレーザー用光学素子の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-281998
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087808
出願日： 1997年10月15日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】実際には、内部透過率が高い素材に光量損失ゼロに設計された薄膜を成膜したとしても、光学素子としたときに所望の高透過率が得られていない。【解決手段】光学素材の表面を表面粗さ5Å以下となるように研磨する工程と、研磨された光学素材表面を紫外線洗浄する工程と、紫外線洗浄された光学素子に、ArFエキシマレーザー光を透過する光学薄膜を成膜する工程とからなる光学素子の製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

ArFエキシマレーザーを光源とする光学系に用いられる光学素子の製造方法において、光学素材の表面を表面粗さ5Å以下となるように研磨する工程と、前記研磨された光学素材表面を紫外線洗浄する工程と、前記紫外線洗浄された光学素子に、ArFエキシマレーザー光を透過する光学薄膜を成膜する工程と、からなることを特徴とするArFエキシマレーザー用光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

H01S 3/034 , G02B 1/11 , H01S 3/225

FI (3件)：

H01S 3/03 G , G02B 1/10 A , H01S 3/223 E

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-102139
特開平4-038885
高屈折率を有する複合材料、該複合材料の製造方法及び該複合材料を含む光学活性材料
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-504381 出願人：コミサリヤ・ア・レネルジ・アトミク

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