特許
J-GLOBAL ID：200903092185744130
膜厚測定方法およびその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 由充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-074504
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277216
出願日： 2001年03月15日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 規則性をもって配列されたパターンを具備する基板に対し、基板の上下方向への位置ずれの影響をうけずに、正確な膜厚計測を行えるようにする。【解決手段】 マトリクス配列された透明電極パターン13を具備する基板11に対し、投光部1より一方の電極間13a,13aに他方の電極13bの配列を横切るような帯状のレーザービームを照射するととともに、前記電極13bのパターン配列によって生じた回折光をラインCCD10により抽出する。コントローラ3には、あらかじめ、抽出対象となる各回折光の理論上の強度と膜厚との関係を示すテーブルが設定されており、これら回折光の理論上の強度がラインCCD10により抽出された回折光の強度に最も近くなる場合の膜厚を求め、これを測定対象の基板11の膜厚として特定する。
請求項（抜粋）：
少なくとも2方向に沿って形成されたパターン配列の上方に透光性を有する薄膜が形成されて成る基板について、前記薄膜の厚みを計測する方法であって、前記基板に対し、いずれか一方向に沿うパターン配列を横切り、かつ他のパターン配列を横切らない領域に直線偏光となる単色光を照射してこの領域からの回折光を抽出した後、前記基板と同一種の基板に同様の条件で直線偏光となる単色光を照射したときに得られる理論上の回折光の強度と薄膜の厚みとの関係に前記抽出された回折光の強度をあてはめて計測対象の薄膜の厚みを特定することを特徴とする膜厚測定方法。
Fターム (27件)：
2F065AA30
, 2F065BB01
, 2F065BB22
, 2F065CC25
, 2F065CC31
, 2F065DD08
, 2F065EE07
, 2F065FF42
, 2F065FF48
, 2F065FF51
, 2F065FF61
, 2F065GG06
, 2F065GG12
, 2F065GG22
, 2F065HH04
, 2F065HH05
, 2F065HH09
, 2F065HH12
, 2F065JJ02
, 2F065JJ25
, 2F065LL08
, 2F065NN01
, 2F065NN11
, 2F065QQ03
, 2F065QQ18
, 2F065QQ23
, 2F065QQ28
