特許

J-GLOBAL ID：200903092287997016

酸化チタンの製造方法

発明者： 瀧 大輔 ,  堀川 松秀
出願人/特許権者： 東邦チタニウム株式会社
代理人 (3件)： 赤塚 賢次 ,  福田 保夫 ,  阪田 泰之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-326208
公開番号（公開出願番号）：特開2008-179528
出願日： 2007年12月18日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：

【解決課題】優れた可視光吸収特性及び可視光での光触媒活性を有する酸化チタンの製造方法を提供すること。【解決手段】比表面積が200m2/g以上400m2/g以下であり、X線回折分析によるアナターゼの(101)ピークの半値幅が2θ=0.60°以上1.5°以下であり、且つ結晶構造がアナターゼ主体である原料酸化チタンと、硫黄化合物または窒素化合物のうち少なくともいずれか、またはこれらの両方と、を混合して、焼成原料混合物を得、次いで、該焼成原料混合物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

比表面積が200m2/g以上400m2/g以下であり、X線回折分析によるアナターゼの(101)ピークの半値幅が2θ=0.60°以上1.5°以下であり、且つ結晶構造がアナターゼ主体である原料酸化チタンと、硫黄化合物または窒素化合物のうち少なくともいずれか、またはこれらの両方と、を混合して、焼成原料混合物を得、次いで、該焼成原料混合物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。

IPC (4件)：

C01G 23/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 27/02 ,  B01J 23/745

FI (4件)：

C01G23/00 D ,  B01J35/02 J ,  B01J27/02 M ,  B01J23/74 301M

Fターム (30件)：

4G047CA03 ,  4G047CB04 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G169AA06 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC65A ,  4G169BC66B ,  4G169BC69A ,  4G169BD08A ,  4G169BD08B ,  4G169CA00 ,  4G169DA05 ,  4G169EC03X ,  4G169EC03Y ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4G169FB07 ,  4G169FC02 ,  4G169FC04 ,  4G169HA02 ,  4G169HB02 ,  4G169HD12

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 含硫黄金属酸化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-143980   出願人：株式会社トクヤマ
• 酸化チタン光触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-071070   出願人：東邦チタニウム株式会社
• 酸化チタン光触媒およびその製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2005004711   出願人：東邦チタニウム株式会社

審査官引用 (3件)

• 酸化チタン光触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-071070   出願人：東邦チタニウム株式会社
• 可視光応答型光触媒用の酸化チタンおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-410791   出願人：同和鉱業株式会社
• 酸化チタン光触媒の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-141033   出願人：東邦チタニウム株式会社