特許

J-GLOBAL ID：200903092296388790

回路パターンの検査方法および検査装置

発明者： 宮井 裕史 ,  船津 隆一 ,  二宮 拓 ,  奈良 安彦
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-348951
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116768
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【課題】 欠陥確認時に検出した欠陥がいくらのしきい値で検出できるかを確認しながら最適なしきい値を簡便に設定でき、レシピが容易に作成できる回路パターンの検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】 表面に回路パターンを形成した試料に電子線を照射し、試料から発生する二次電子または反射電子に基づき検査画像および参照画像を生成し、検査画像と参照画像の差分から異常部を求める回路パターンの検査であって、異常部の画像から当該異常部の特徴量を複数求め、特徴量について仮想的に設定した検査閾値の変更により異常部を選択表示する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面に回路パターンを形成した試料に電子線を照射し、前記試料から発生する二次電子または反射電子に基づき検査画像および参照画像を生成し、前記検査画像と参照画像の差分から異常部を求める回路パターンの検査方法において、前記異常部の画像から当該異常部の特徴量を複数求め、前記複数求めた前記異常部の特徴量と前記異常部の検査画像および参照画像とを記憶し、前記特徴量について仮想的に設定した検査閾値の変更により前記異常部を選択表示することを特徴とする回路パターンの検査方法。

IPC (3件)：

H01L21/66 ,  G01B15/04 ,  G01N23/225

FI (3件)：

H01L21/66 J ,  G01B15/04 ,  G01N23/225

Fターム (42件)：

2F067AA03 ,  2F067AA45 ,  2F067AA51 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067FF00 ,  2F067FF11 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN01 ,  2F067QQ02 ,  2F067QQ11 ,  2F067RR12 ,  2F067RR20 ,  2F067RR27 ,  2F067RR29 ,  2F067SS02 ,  2F067SS13 ,  2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• SEM式欠陥レビュー装置およびその方法並びに検査システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-316334   出願人：株式会社日立製作所
• 欠陥分類方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-374577   出願人：オリンパス光学工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 電子線式回路パターンの検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-022928   出願人：株式会社日立製作所