特許
J-GLOBAL ID：200903092541536547

ポリッシング装置

発明者：
木村 憲雄

木村 憲雄 について

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桜井 邦彦

桜井 邦彦 について

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戸川 哲二

戸川 哲二 について

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勝岡 誠司

勝岡 誠司 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090569
公開番号（公開出願番号）：特開平9-254018
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 トップリング及びドレッシングツールをターンテーブル外側位置で待機中に洗浄液で湿潤状態に保つことにより、スラリー等の除去と乾燥を防止することができるポリッシング装置を提供すること。【解決手段】ポリッシング装置において、トップリング20及びドレッサーリング30がターンテーブル10の外側の待機位置G、Jで待機中、該トップリング20及びドレッシングツール30を湿潤状態に保つ湿潤手段(洗浄水を噴射する洗浄水ノズル40、41又は洗浄水を満たした容器44、45)を設けた。
請求項（抜粋）：
上面に研磨布を貼付たターンテーブル、被研磨物を保持するトップリング及び前記研磨布をドレッシングするドレッシングツールを具備し、回転する該ターンテーブルの研磨布に回転するトップリングに保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨すると共に、回転する該ターンテーブルの研磨布に回転するドレッシングツールを押し当て該研磨布の経時的変化を修正し目立てを行うポリッシング装置において、前記トップリング及び/又はドレッシングツールがターンテーブルの外側位置で待機中該トップリング及び/又はドレッシングツールの少なくとも下面を湿潤状態に保つ湿潤手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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