特許

J-GLOBAL ID：200903092570104036

貯留槽の水質維持装置

発明者： 宮下 明巳 ,  石塚 章斤 ,  若林 昭宏 ,  丹治 正孝
出願人/特許権者： 日立テクノエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-054461
公開番号（公開出願番号）：特開2001-232366
出願日： 2000年02月25日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：

【要約】【課題】貯留水の残留塩素濃度を計測することなく水温を計測して電気分解処理時間を決め、所望の残留塩素濃度に管理する事が出来る貯留槽の水質維持装置を提供することである。【解決手段】貯留槽に貯えた貯留水に電気化学的処理を施して貯留槽内の貯留水に含まれる残留塩素濃度を所望値に維持する水処理手段を有するものであり、この水処理手段は、貯留水の水温に応じてその電気化学的処理時間を制御して貯留水に含まれる残留塩素濃度を所望値に維持するものである。

請求項（抜粋）：

貯留槽に貯えた貯留水に電気化学的処理を施して貯留槽内の貯留水に含まれる残留塩素濃度を所望値に維持する水処理手段を有するものにおいて、該水処理手段は、貯留水の水温に応じてその電気化学的処理時間を制御して貯留水に含まれる残留塩素濃度を所望値に維持するものであることを特徴とする貯留槽の水質維持装置。

IPC (9件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  E03B 11/00

FI (9件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 B ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 F ,  E03B 11/00 Z

Fターム (15件)：

4D061DA03 ,  4D061DB01 ,  4D061EA02 ,  4D061EB02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061GA02 ,  4D061GA03 ,  4D061GA04 ,  4D061GA09 ,  4D061GA15 ,  4D061GC02 ,  4D061GC04 ,  4D061GC15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 塩素発生器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-143110   出願人：サンデン株式会社
• 水槽用殺菌システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-030553   出願人：サンデン株式会社
• 水質維持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-077263   出願人：九州日立マクセル株式会社
• 塩素発生器の制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127845   出願人：松下冷機株式会社