シリコン単結晶ウエーハの洗浄方法および洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：山本亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-018024
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213354
出願日： 1995年02月06日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】シリコン単結晶ウエーハの洗浄において、表面金属不純物と表面パーティクルを同時に除去することができ、しかも工程を短縮することができるウエーハの洗浄方法およびその洗浄装置の提供を目的とする。【構成】重量濃度で、0.05〜20重量%の弗化水素を含む水溶液で構成される洗浄液4を貯留した洗浄槽1中に、シリコン単結晶ウエーハWを浸漬し、これに100kHz以上で3MHz以下の超音波を作用させて洗浄する。

請求項（抜粋）：

重量濃度で、0.05〜20%の弗化水素を含む水溶液で構成される洗浄液中にシリコン単結晶ウエーハを浸漬し、これに100kHz以上で3MHz以下の超音波を作用させて洗浄することを特徴とするシリコン単結晶ウエーハの洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304

引用特許：

審査官引用 (8件)

液中異物付着制御法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-226873 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-026120
シリコンウエハ表面の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-220622 出願人：ダイキン工業株式会社

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