特許
J-GLOBAL ID：200903092694489890

ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル

発明者：
濱田 裕一

濱田 裕一 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-123354
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308901
出願日： 2004年04月19日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】ペリクル膜や接着層の損傷及びパーティクルの発生を効果的に防ぐことができ、露光原版に対して均一に加圧することができるペリクルフレームを提供する。【解決手段】上端面と下端面を有し、上端面にペリクル膜を貼り付け、下端面を露光原版に貼り付けるフォトリソグラフィー用ペリクルのペリクルフレームであって、該フレームの上端面において、全周又は一部に、溝2、突起、又は段差が形成されており、該溝、突起、又は段差より内側に接着層を介してペリクル膜を貼り付けるための領域3が設けられており、前記溝、突起、又は段差より外側に露光原版に対して該フレームを加圧するための領域4が設けられているものであることを特徴とするペリクルフレーム1。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
上端面と下端面を有し、上端面にペリクル膜を貼り付け、下端面を露光原版に貼り付けるフォトリソグラフィー用ペリクルのペリクルフレームであって、該フレームの上端面において、全周又は一部に、溝、突起、又は段差が形成されており、該溝、突起、又は段差より内側に接着層を介してペリクル膜を貼り付けるための領域が設けられており、前記溝、突起、又は段差より外側に露光原版に対して該フレームを加圧するための領域が設けられているものであることを特徴とするペリクルフレーム。
IPC (2件)：
G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F1/14 K ,  H01L21/30 502P
Fターム (3件)：
2H095BA02 ,  2H095BC38 ,  2H095BC39
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第4861402号公報
  • 特公昭63-27707号公報
審査官引用 (6件)
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