特許
J-GLOBAL ID：200903092754927183

加熱装置

発明者：
後藤 義信

後藤 義信 について

, 
鶴田 英芳

鶴田 英芳 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (2件)： 細田 益稔 ,  青木 純雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-333950
公開番号（公開出願番号）：特開2004-171834
出願日： 2002年11月18日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】被加熱物を設置し、加熱するための加熱装置において、加熱時の経時変化による設置面の熱変形を少なくし、被加熱物の平面度を高く保持し、かつヒーターに支持に耐える強度を付与しつつ製造コストを低減する。【解決手段】加熱装置1は、被加熱物Wを設置するための設置面2a、背面2bおよび側面2cを有するセラミック基板2、セラミック基板2の設置面2aから発熱を生じさせるための加熱手段3、およびセラミック基板2を背面2bから支持する金属製の板状支持部材4を備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被加熱物を設置するための設置面、背面および側面を有するセラミック基板、前記セラミック基板の前記設置面から発熱を生じさせるための加熱手段、および前記セラミック基板を前記背面から支持する金属製の板状支持部材を備えていることを特徴とする、加熱装置。
IPC (5件)：
H05B3/74 ,  H01L21/205 ,  H05B3/06 ,  H05B3/10 ,  H05B3/18
FI (5件)：
H05B3/74 ,  H01L21/205 ,  H05B3/06 B ,  H05B3/10 C ,  H05B3/18
Fターム (17件)：
3K092PP09 ,  3K092QA05 ,  3K092QB02 ,  3K092QB62 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF17 ,  3K092RF26 ,  3K092RF27 ,  3K092TT09 ,  3K092TT16 ,  3K092VV02 ,  3K092VV26 ,  3K092VV40 ,  5F045AA03 ,  5F045DP02 ,  5F045EK09
引用特許：
審査官引用 (6件)
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