真空処理方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-098243
公開番号（公開出願番号）：特開平8-293486
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】停電あるいは誤動作により電源が遮断された場合等の異常時においてもスル-プットの低下を防止するのに好適な真空処理方法および装置を提供する。【構成】静電吸着電極12と直流電源13の間にスイッチ15を設け、正常時にはプラズマ6を生成した状態でスイッチ15を端子17と接続することにより静電吸着電極12を抵抗18を介して接地し、異常時にはスイッチ15を端子19と接続して静電吸着電極12と直流電源13を遮断するようにスイッチ15を操作する。下部電極7にはウエハ1裏面と処理室27を連通するHeガス抜き孔29とこの孔29を非通電時開放するOリングを有する蓋31と、Heガス20の排気管32を非通電時開放するバルブ33を介して冷却ガス導入配管23とが処理室の間に設けてある。異常時には蓋、バルブを開き、ウエハ裏面、冷却ガス導入配管23内に残留するHeガスを差圧により処理室に排出する。

請求項（抜粋）：

試料を、絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持した状態で前記試料裏面に伝熱ガスを導入して処理する真空処理方法において、正常時には前記絶縁膜を接地して除電するステップと、異常時には吸着力を残留させ、該残留期間中に前記試料裏面の伝熱ガスを排出し、そして、前記絶縁膜を接地して除電するステップとを有することを特徴とする真空処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/68 , B23Q 3/15

FI (4件)：

H01L 21/302 A , H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

静電吸着装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-195058 出願人：株式会社日立製作所
静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-030403 出願人：日本真空技術株式会社
静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-061865 出願人：株式会社日立製作所

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