特許
J-GLOBAL ID：200903092843818339

散気方法及び散気システム

発明者：
山村 健治

山村 健治 について

, 
本藤 和臣

本藤 和臣 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-193747
公開番号（公開出願番号）：特開2004-033889
出願日： 2002年07月02日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】散気膜を備える散気装置を用いて被処理水への散気を行うに際し、散気孔への付着物を確実に除去すると共に通気停止時間を短縮して生物処理における処理効率を高水準に維持することが可能な散気方法及び散気システムを提供すること。【解決手段】本発明の散気方法は、プレート及びプレートを覆うように配置された散気膜を備え、プレートと散気膜との間に空気収容部を有する散気装置を用いる散気方法であって、被処理水中に配置された散気装置の空気収容部に空気を供給し、空気の圧力により散気膜を膨張させて生じる散気孔から被処理水中に気泡を噴出させる散気工程と、散気装置を被処理水中に配置したまま、空気の供給を停止して洗浄水により散気孔を洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
プレート及び該プレートを覆うように配置された散気膜を備え、前記プレートと前記散気膜との間に空気収容部を有する散気装置を用いる散気方法であって、 被処理水中に配置された前記散気装置の前記空気収容部に空気を供給し、該空気の圧力により前記散気膜を膨張させて生じる散気孔から前記被処理水中に気泡を噴出させる散気工程と、 前記散気装置を前記被処理水中に配置したまま、空気の供給を停止して前記空気収容部に洗浄水を供給して前記散気孔を洗浄する洗浄工程と を含むことを特徴とする散気方法。
IPC (5件)：
C02F3/20 ,  B01F3/04 ,  B01F5/06 ,  B01F15/00 ,  B01F15/02
FI (5件)：
C02F3/20 D ,  B01F3/04 A ,  B01F5/06 ,  B01F15/00 D ,  B01F15/02 A
Fターム (13件)：
4D029AA01 ,  4D029AB07 ,  4D029BB10 ,  4D029DD01 ,  4G035AB06 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02 ,  4G035AE07 ,  4G035AE13 ,  4G037AA01 ,  4G037AA18 ,  4G037DA14 ,  4G037EA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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