特許
J-GLOBAL ID：200903092912496349

超純水の製造方法

発明者：
山下 喜文

山下 喜文 について

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三好 伸幸

三好 伸幸 について

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森本 裕之

森本 裕之 について

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大城戸 始

大城戸 始 について


出願人/特許権者：
株式会社トクヤマ

株式会社トクヤマ について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-118246
公開番号（公開出願番号）：特開2005-296848
出願日： 2004年04月13日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】超純水を製造するための工程を簡略化できると共に、原水としての使用が困難であった汚染水溶液、例えば、半導体製造工場におけるレジスト洗浄廃液の如き希薄な水酸化テトラアルキルアンモニウム(TMAH)含有廃水を使用することが可能な超純水の新規な製造方法を提供する。【解決手段】TMAH含有廃水は、半導体製造工場201より薄膜蒸発缶202に供給され、留出水を得、上記留出水は、外気と接触することなく配管を通じて超純水製造工程に供給される。上記超純水製造工程において、留出水は、紫外線酸化処理装置203、イオン交換樹脂装置204、フィルター装置205で順次処理され、ユースポイント206に供給される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
原水を薄膜蒸発缶に導入して水を留出せしめた後、該留出水を外気と接触させること無く、上記薄膜蒸発缶より配管を通じて超純水製造工程に一次純水として供給することを特徴とする超純水の製造方法。
IPC (4件)：
C02F1/08 ,  B01D1/22 ,  C02F1/04 ,  H01L21/304
FI (4件)：
C02F1/08 ,  B01D1/22 A ,  C02F1/04 D ,  H01L21/304 648F
Fターム (14件)：
4D034AA26 ,  4D034BA03 ,  4D034CA17 ,  4D076AA22 ,  4D076BA12 ,  4D076CA19 ,  4D076EA02Z ,  4D076FA04 ,  4D076FA11 ,  4D076FA18 ,  4D076HA01 ,  4D076HA06 ,  4D076JA01 ,  4D076JA03
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 超純水の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-215562   出願人：栗田工業株式会社
審査官引用 (4件)
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