特許
J-GLOBAL ID：200903092927453859
光学機能性膜及びその製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-000622
公開番号（公開出願番号）：特開2000-198964
出願日： 1999年01月05日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】 塗布法を採用し、加熱工程を必要としないで屈折率1.38〜1.46の所謂低屈折率のゲル薄膜を形成することができ、大量生産や設備コスト面で有利な光学機能性膜の製造方法、及びその製造方法により得られた光学機能性膜を提供する。【解決手段】 基材上に直接又は他の層を介して支持されているゲル層からなる光学機能性膜である。該光学機能性膜は、Rm Si(OR’)n (Rは炭素数1〜10のアルキル基、又はビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製してなるアルコキシシラン加水分解溶液が塗布法(溶液法)により塗布層とされ、次いで、該塗布層が活性エネルギー線(例えば、紫外線)により硬化されてオルガノポリシロキサン層となったものである。
請求項（抜粋）：
基材上に直接又は他の層を介して支持されている光学機能性膜であって、Rm Si(OR’)n(Rは炭素数1〜10のアルキル基、又はビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製してなるアルコキシシラン加水分解溶液が塗布法により塗布層とされ、次いで該塗布層が活性エネルギー線により硬化されてオルガノポリシロキサン層となったものであることを特徴とする光学機能性膜。
IPC (6件)：
C09D183/04
, C08J 7/04 CFH
, C09D 5/00
, G02B 1/11
, G02B 5/22
, C08L 83:04
C09D183/04
, C08J 7/04 CFH Z
, C09D 5/00 C
, G02B 5/22
, G02B 1/10 A
2H048CA05
, 2H048CA13
, 2K009AA02
, 2K009BB24
, 2K009CC42
, 2K009DD03
, 2K009DD04
, 4F006AA02
, 4F006AA19
, 4F006AB39
, 4F006AB74
, 4F006DA01
, 4F006DA04
, 4F006EA03
, 4J038DL031
, 4J038GA01
, 4J038GA03
, 4J038GA06
, 4J038GA07
, 4J038GA09
, 4J038GA13
, 4J038HA216
, 4J038JC32
, 4J038NA19
, 4J038PA07
, 4J038PA17
, 4J038PC08
