ヒ素又はヒ素化合物を含む排ガスの処理方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-133696
公開番号（公開出願番号）：特開2003-326128
出願日： 2002年05月09日
公開日（公表日）： 2003年11月18日
要約：

【要約】【課題】ヒ素化合物(若しくはヒ素)、と、酸性ガス、フッ化炭化水素やパーフルオロ化合物などのフッ素化合物などを含む排ガスを安価で確実に除去する方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明は、ヒ素又はヒ素化合物と、酸性ガス及び/又はフッ素化合物とを含む排ガスを処理する方法であって、上記排ガスを、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有する固形薬剤層に通す第1の工程、及び、第1の工程の流出ガスを、燃焼式排ガス処理装置及び/又は触媒式排ガス処理装置及び/又は加熱酸化式排ガス処理装置によって処理する第2の工程、を含むことを特徴とする上記方法、並びにかかる方法を行うための装置に関する。

請求項（抜粋）：

ヒ素又はヒ素化合物と、酸性ガス及び/又はフッ素化合物とを含む排ガスを処理する方法であって、上記排ガスを、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有する固形薬剤層に通す第1の工程、及び、第1の工程の流出ガスを、燃焼式排ガス処理装置及び/又は触媒式排ガス処理装置及び/又は加熱酸化式排ガス処理装置によって処理する第2の工程、を含むことを特徴とする上記方法。

IPC (8件)：

B01D 53/46 , B01D 53/68 , B01D 53/70 , B01D 53/77 , B01D 53/86 ZAB , F23G 5/02 , F23G 7/06 , F23G 7/06 102

FI (7件)：

F23G 5/02 D , F23G 7/06 N , F23G 7/06 102 V , B01D 53/34 120 A , B01D 53/34 134 D , B01D 53/34 134 E , B01D 53/36 ZAB Z

Fターム (49件)：

3K065AA24 , 3K065AB01 , 3K065AC19 , 3K065BA05 , 3K065BA10 , 3K065CA04 , 3K078AA05 , 3K078AA10 , 3K078BA20 , 3K078BA21 , 3K078CA01 , 3K078DA01 , 4D002AA01 , 4D002AA17 , 4D002AA18 , 4D002AA22 , 4D002AA23 , 4D002AA31 , 4D002AB01 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA03 , 4D002BA04 , 4D002BA05 , 4D002BA12 , 4D002BA13 , 4D002BA16 , 4D002CA01 , 4D002CA07 , 4D002CA13 , 4D002DA02 , 4D002DA05 , 4D002DA11 , 4D002DA12 , 4D002DA22 , 4D002DA23 , 4D002DA35 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002EA02 , 4D002EA04 , 4D048AA11 , 4D048AB03 , 4D048BA03X , 4D048BA41X , 4D048CA03 , 4D048CC52 , 4D048CD01 , 4D048CD02

引用特許：

審査官引用 (8件)

排ガスの除害方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-122360 出願人：日本酸素株式会社
排ガス処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-280932 出願人：西脇秋史, 福田高雄
半導体製造業の排ガス処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-254585 出願人：淡路敏夫

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