特許

J-GLOBAL ID：200903093066168852

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングするための装置および方法

発明者： メーリス マルク ,  メルテンス パウル ,  ヘインス マルク
出願人/特許権者： インテルウニフェルシテール ミクロエレクトロニカ セントルム フェライニジンク ゾンダ ウィンストベヤーク
代理人 (1件)： 白浜 吉治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-166302
公開番号（公開出願番号）：特開平10-180196
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：

【要約】基材(9)の導入口(5)及び導出口(7)を有するタンク(3)を含み、前記基材(9)を湿式クリーニングまたはエッチングするための装置(1)。このタンクはクリーニング液(11)を収容しており、気体環境(13)内に設置される。導入出口の少なくとも一方はタンク側壁に形成され、液面(15)よりも下方に位置する。タンク(3)内には、気体環境(13)内の圧力よりも低い圧力のガスで満たされた部分(25)が液(11)の上方に存在してもよい。本発明の方法は、前記装置を利用して、クリーニングまたはエッチング液に、液面よりも低いレベルで基材を導入、導出するステップから成る。

請求項（抜粋）：

平坦な基材のための開口を有するタンクを含み、前記タンクが少なくとも1種類のクリーニングまたはエッチング液を収容して環境内に設置され、前記開口が液面よりも下方に位置している、前記基材の湿式クリーニングまたはエッチングのための装置において、前記環境が主としてガスまたは混合ガスから成り、前記装置が前記タンクの開口から前記環境へ前記液が漏出するのを防止する手段を含むことを特徴とする前記装置。

IPC (4件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/306 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-303933
  
• ガスを用いた洗浄方法および洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-144222   出願人：住友重機械工業株式会社
• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-151637   出願人：スピードファムクリーンシステム株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-192876   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平3-200328