無電解銅めっき浴及び高周波用電子部品

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：町田袈裟治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036242
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013247
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】セラミック表面の粗さが小さくて平滑な表面であっても銅めっき膜の良好な密着性を確保することが可能であるとともに、高周波電導性が良好でQ値の高い高周波用電子部品を作製することができる無電解銅めっき浴と、この無電解銅めっき浴を使用して作製された高周波用電子部品とを提供する。【解決手段】本発明にかかる無電解銅めっき浴は、銅イオンと、ニッケルイオンと、ホルムアルデヒドまたはその誘導体と、酒石酸またはその塩とを含んでいることを特徴とする。そして、銅イオンの100モルに対するニッケルイオンの添加量は、0.01〜1.0モルの範囲内とされている。また、本発明にかかる高周波用電子部品は、上記の無電解銅めっき浴を使用しためっき処理によって形成された銅めっき膜を有していることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

銅イオンと、ニッケルイオンと、ホルムアルデヒドまたはその誘導体と、酒石酸またはその塩とを含んでいることを特徴とする無電解銅めっき浴。

IPC (4件)：

C23C 18/40 , H01P 7/04 , H01P 7/10 , H01P 11/00

FI (4件)：

C23C 18/40 , H01P 7/04 , H01P 7/10 , H01P 11/00 J

Fターム (12件)：

4K022AA04 , 4K022AA41 , 4K022BA08 , 4K022BA14 , 4K022BA31 , 4K022BA32 , 4K022DA01 , 4K022DB06 , 5J006HA03 , 5J006HC03 , 5J006LA02 , 5J006LA27

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-292005
特開昭64-077840
無電解めっき方法及び無電解めっき液
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-192709 出願人：ソニー株式会社

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