特許
J-GLOBAL ID:200903093370117857

交流用スイッチ素子及び交流回路

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-076353
公開番号(公開出願番号):特開2000-269354
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】素子数を削減した低価格の交流用スイッチ素子を提供する。【解決手段】p形半導体基板10上にはドレインであるn-領域11が形成され、このn-領域11内には2つのp形領域12A、12Bが形成されている。この2つのp形領域12A、12B内には、ソースであるn+領域13A、13Bがそれぞれ形成されている。n+領域13Aとn+領域13B間のp形領域12A上部、及びn+領域13Aとn+領域13B間のp形領域12B上部はチャネル領域になっている。これらチャネル領域上には、それぞれゲート絶縁膜15A、15Bを介してゲート電極16A、16Bが形成され、また前記n+領域13A、13B上には、それぞれソース電極17A、17Bが形成されている。
請求項(抜粋):
第1導電形の半導体基板上に形成された前記第1導電形と反対の第2導電形の第1半導体領域と、前記第1半導体領域内に分離されて形成された前記第1導電形の第2、第3半導体領域と、前記第2半導体領域内に形成された前記第2導電形の第4半導体領域と、前記第3半導体領域内に形成された前記第2導電形の第5半導体領域と、前記第2半導体領域と前記第3半導体領域との間の前記第1半導体領域内に形成された、前記第1半導体領域より高濃度の第6半導体領域と、前記第4半導体領域と前記第6半導体領域との間の前記第2半導体領域上部に形成された第1チャネル領域と、前記第5半導体領域と前記第6半導体領域との間の前記第3半導体領域上部に形成された第2チャネル領域と、前記第1チャネル領域上に形成された第1制御電極と、前記第2チャネル領域上に形成された第2制御電極と、を具備することを特徴とする交流用スイッチ素子。
IPC (4件):
H01L 21/8234 ,  H01L 27/088 ,  H01L 29/66 ,  H03K 17/56
FI (3件):
H01L 27/08 102 J ,  H01L 29/66 ,  H03K 17/56 Z
Fターム (28件):
5F048AA01 ,  5F048AB10 ,  5F048AC06 ,  5F048AC10 ,  5F048BA01 ,  5F048BA16 ,  5F048BC01 ,  5F048BC03 ,  5F048BC07 ,  5F048BC11 ,  5F048BE02 ,  5F048BE03 ,  5F048BE09 ,  5F048BH01 ,  5J055AX44 ,  5J055BX01 ,  5J055CX18 ,  5J055DX13 ,  5J055DX22 ,  5J055DX44 ,  5J055DX61 ,  5J055DX72 ,  5J055DX83 ,  5J055EY10 ,  5J055EY13 ,  5J055EZ59 ,  5J055GX01 ,  5J055GX07
引用特許:
審査官引用 (10件)
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