特許
J-GLOBAL ID：200903093447617726

地盤注入工法

発明者：
島田 俊介

島田 俊介 について


出願人/特許権者：
強化土エンジニヤリング株式会社

強化土エンジニヤリング株式会社 について


代理人 (1件)： 染谷 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304805
公開番号（公開出願番号）：特開2001-123439
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】地盤状況が各層毎に異なる地盤に対して、これら各層毎に最適な注入を同時に達成し得るのみならず、大容量土に対する長時間連続注入を可能にする地盤注入工法を提供する。【解決手段】複数の細管5を、結束した結束注入管2からなる注入管装置を注入孔に挿入し、注入管装置と注入孔孔壁との間に形成された空間10に注入液を吐出し、この空間の孔壁9を通して注入液を地盤中に注入する。さらに、軸方向に複数の外管吐出口を有する外管12を注入孔に挿入するとともに、外管内に注入管装置を挿入し、この注入管装置は結束注入管と、この結束注入管周囲に、配置された複数の袋体とを備え、これら袋体に流体を充填し、膨脹してパッカー3とし、隣接する一対のパッカーと、外管内壁との間で空間を形成の後、吐出口4から注入液を吐出し、この注入液を外管吐出口を通じて、外管周囲と注入孔孔壁との間に形成された空間に導き、この空間の孔壁から地盤中に浸透、注入する。
請求項（抜粋）：
複数の細管を、これらの吐出口が軸方向に間隔を置いて位置するように結束した結束注入管からなる注入管装置を地盤に削孔された注入孔に挿入し、前記注入管装置と前記注入孔孔壁との間に形成された空間に前記吐出口から注入液を吐出し、この空間の孔壁を通して前記注入液を地盤中に浸透、注入することを特徴とする地盤注入工法。
Fターム (9件)：
2D040AB01 ,  2D040BD05 ,  2D040CB03 ,  2D040CC01 ,  2D040DA01 ,  2D040DA02 ,  2D040DA08 ,  2D040DA12 ,  2D040DC02
引用特許：
審査官引用 (10件)
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