特許
J-GLOBAL ID：200903093474117948

静電場処理装置

発明者：
伊東 昭典

伊東 昭典 について


出願人/特許権者：
エル・エフ・ラボラトリー株式会社

エル・エフ・ラボラトリー株式会社 について


代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154779
公開番号（公開出願番号）：特開平11-346735
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：
【要約】【課題】 遠赤外線効果、光触媒効果及び超音波効果を著しく増大することを目的とする。【解決手段】 静電場雰囲気内で、遠赤外線を放射したり、光触媒反応を起こさせたり、超音波を放射する。
請求項（抜粋）：
被処理体を電気的に絶縁状態に設置し、高電圧が印加された電極を介して被処理体を電場処理するための静電場処理装置において、前記静電場処理装置に遠赤外線放射体光触媒及び超音波のうち、少なくとも1つのものを組み合わせ適用したことを特徴とする静電場処理装置。
IPC (6件)：
A23L 3/32 ,  A23L 3/36 ,  A23L 3/40 ,  A47J 37/12 ,  F25D 23/00 302 ,  F25D 23/00 305
FI (6件)：
A23L 3/32 ,  A23L 3/36 Z ,  A23L 3/40 A ,  A47J 37/12 ,  F25D 23/00 302 M ,  F25D 23/00 305 Z
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 特開平2-309169
  • 絹素材と光半導体の複合材料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-133467   出願人：株式会社信州セラミックス, 有限会社シルテック, 小林製袋産業株式会社
  • 冷蔵庫
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-306414   出願人：松下冷機株式会社
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