液晶用マトリクス基板およびその製造方法ならびにコンタクトホール形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西教圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-290730
公開番号（公開出願番号）：特開2002-098994
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。【解決手段】 TFTアクティブマトリクス基板としての主要部分を形成した後に、表面に感光性アクリル系樹脂膜10を塗布して平坦化する。その上に撥水性フッ素系樹脂11を塗布し、ハーフトーン露光を利用し、感光性アクリル系樹脂膜10をエッチングする。凹所10aは、部分的に硬化するように露光される部分に対応し、コンタクトホール10bは未硬化となるように露光される部分に対応する。塗布型透明導電材を塗布すると、撥水性フッ素系樹脂11が残存している部分には付着しない。凹所10aの部分に形成される塗布型透明導電膜12は、画素電極として利用することができ、ゲート電極膜2と立体的にオーバーラップさせることができる。

請求項（抜粋）：

複数の液晶セルを形成するためのマトリクス回路が電気絶縁性基板上に形成される液晶用マトリクス基板において、マトリクス回路上を平坦に覆うように電気絶縁性合成樹脂材料で形成され、該画素電極形成領域には凹所が形成され、さらに該凹所内に該マトリクス回路まで貫通するコンタクトホールが形成される電気絶縁膜と、電気絶縁膜の凹所およびコンタクトホール内に充填される導電材とを含むことを特徴とする液晶用マトリクス基板。

IPC (6件)：

G02F 1/1368 , G03F 7/20 501 , H01L 21/312 , H01L 21/768 , H01L 29/786 , H01L 21/336

FI (6件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/312 D , G02F 1/136 500 , H01L 21/90 A , H01L 29/78 612 D , H01L 29/78 616 J

Fターム (49件)：

2H097BB01 , 2H097FA02 , 2H097LA12 , 5F033HH08 , 5F033HH17 , 5F033HH21 , 5F033HH38 , 5F033JJ01 , 5F033JJ08 , 5F033JJ17 , 5F033JJ21 , 5F033JJ38 , 5F033KK05 , 5F033PP26 , 5F033QQ09 , 5F033QQ37 , 5F033RR06 , 5F033VV15 , 5F033XX33 , 5F058AA06 , 5F058AB04 , 5F058AB07 , 5F058AC07 , 5F058AC10 , 5F058AF04 , 5F058AH02 , 5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110CC07 , 5F110DD02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE44 , 5F110FF03 , 5F110GG02 , 5F110GG15 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK09 , 5F110HK21 , 5F110HL07 , 5F110HL14 , 5F110HL22 , 5F110HM18 , 5F110NN03 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN34 , 5F110QQ02

引用特許：

審査官引用 (5件)

液晶表示装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-269116 出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
アクティブマトリクス液晶表示装置およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-348171 出願人：セイコーエプソン株式会社
液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-000160 出願人：三星電子株式会社

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