特許
J-GLOBAL ID:200903093502396114
非平衡プラズマによるガス処理方法と放電電極及びそれを備えたガス処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-308498
公開番号(公開出願番号):特開2005-144445
出願日: 2004年10月22日
公開日(公表日): 2005年06月09日
要約:
【課題】 非平衡プラズマによるガス処理を効率的に、しかも低コストで行うことができる非平衡プラズマによるガス処理方法と放電電極及びそれを備えたガス処理装置を提供する。【解決手段】 本発明の非平衡プラズマによるガス処理方法は、非平衡プラズマP内に、光触媒と該光触媒を除く固体物質と光触媒を除く触媒とを含有する光触媒体15を配置し、この非平衡プラズマP内に被処理ガスgを導入し、この被処理ガスgの分解処理を行うことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
非平衡プラズマ内に、光触媒と該光触媒を除く固体物質と光触媒を除く触媒とを含有する光触媒体を配置し、この非平衡プラズマ内に被処理ガスを導入して該被処理ガスの分解処理を行うことを特徴とする非平衡プラズマによるガス処理方法。
IPC (7件):
B01D53/56
, B01D53/50
, B01D53/70
, B01D53/74
, B01D53/86
, B01J19/08
, B01J35/02
FI (6件):
B01D53/34 129C
, B01J19/08 E
, B01J35/02 J
, B01D53/34 122Z
, B01D53/34 134E
, B01D53/36 J
Fターム (108件):
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AA21
, 4D002AC04
, 4D002AC10
, 4D002BA04
, 4D002BA07
, 4D002CA07
, 4D002DA11
, 4D002DA21
, 4D002DA45
, 4D002DA46
, 4D002DA70
, 4D002GA01
, 4D002GB12
, 4D048AA02
, 4D048AA06
, 4D048AA11
, 4D048AB03
, 4D048BA03Y
, 4D048BA06Y
, 4D048BA07X
, 4D048BA08Y
, 4D048BA09Y
, 4D048BA11Y
, 4D048BA14Y
, 4D048BA16Y
, 4D048BA19Y
, 4D048BA23Y
, 4D048BA25Y
, 4D048BA26Y
, 4D048BA27Y
, 4D048BA28Y
, 4D048BA30Y
, 4D048BA31Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA35Y
, 4D048BA36Y
, 4D048BA37Y
, 4D048BA38Y
, 4D048BA41X
, 4D048BA42Y
, 4D048BA45Y
, 4D048BB17
, 4D048EA01
, 4D048EA03
, 4D048EA04
, 4G069AA03
, 4G069BA02A
, 4G069BA03A
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA05A
, 4G069BA07A
, 4G069BA10A
, 4G069BA15A
, 4G069BA22A
, 4G069BA22B
, 4G069BA48A
, 4G069BB06A
, 4G069BC04A
, 4G069BC12A
, 4G069BC13A
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC35A
, 4G069BC43A
, 4G069BC50A
, 4G069BC54A
, 4G069BC58A
, 4G069BC59A
, 4G069BC60A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069CA02
, 4G069CA03
, 4G069CA04
, 4G069CA10
, 4G069CA12
, 4G069CA13
, 4G069CA19
, 4G069DA05
, 4G069EA02Y
, 4G069EC02X
, 4G069FC08
, 4G069ZA04A
, 4G069ZA06A
, 4G075AA03
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075CA47
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB21
, 4G075EC21
, 4G075EE02
, 4G075EE05
, 4G075EE07
, 4G075EE40
, 4G075FA01
, 4G075FA12
, 4G075FA14
, 4G075FC15
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
物質処理方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-218866
出願人:日本碍子株式会社, 石井彰三
審査官引用 (10件)
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