特許

J-GLOBAL ID：200903093597993815

位相シフトマスクの修理方法

発明者： 李 正 允 ,  崔 成 雲 ,  張 日 容 ,  安 垣 錫 ,  韓 盛 載
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (3件)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-211540
公開番号（公開出願番号）：特開2006-039551
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】 位相シフトマスクの修理方法を提供する。【解決手段】 基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階S42と、位相シフトマスクを洗浄する段階S43と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを備えた位相シフトマスクを修理する方法において、 前記位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階と、 前記位相シフトマスクを洗浄する段階と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F1/08 X ,  B08B3/08 Z ,  H01L21/30 502P

Fターム (9件)：

2H095BB03 ,  2H095BB17 ,  2H095BB19 ,  2H095BB22 ,  2H095BC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB42 ,  3B201BB01 ,  3B201CC01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5286581号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及びそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-040484   出願人：ホーヤ株式会社
• 位相シフトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-258097   出願人：凸版印刷株式会社
• 露光用マスクとその製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-304186   出願人：株式会社東芝