特許
J-GLOBAL ID：200903093612657398
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-125241
公開番号（公開出願番号）：特開2004-333548
出願日： 2003年04月30日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】高いエッチング耐性を有するとともに高解像性を得ることができ、電子線による露光工程を用いて微細パターンを形成できるポジ型ホトレジスト組成物、および該ポジ型ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)を含み、前記(A)成分がヒドロキシスチレンから誘導される第1の構成単位(a1)、およびアルコール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される第2の構成単位(a2)を含む共重合体からなり、前記構成単位(a1)の水酸基および前記構成単位(a2)のアルコール性水酸基のうちの一部が酸解離性溶解抑制基により保護されているEB用ポジ型ホトレジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に用いられるポジ型ホトレジスト組成物であって、
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)を含み、
前記(A)成分がヒドロキシスチレンから誘導される第1の構成単位(a1)、およびアルコール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される第2の構成単位(a2)を含む共重合体からなり、前記構成単位(a1)の水酸基および前記構成単位(a2)のアルコール性水酸基のうちの一部が酸解離性溶解抑制基により保護されていることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F7/039
, C08F212/08
, C08F212/14
, C08F220/28
, G03F7/004
, G03F7/40
, H01L21/027
G03F7/039 601
, C08F212/08
, C08F212/14
, C08F220/28
, G03F7/004 501
, G03F7/40 511
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 541P
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA33
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096BA20
, 2H096EA06
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA05
, 2H096LA16
, 4J100AB02R
, 4J100AB07P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BC07Q
, 4J100BC09Q
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
, 5F056DA30
