特許
J-GLOBAL ID：200903093656274623
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-156584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340467
出願日： 2004年05月26日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、配線パターン等の永久パターンを極めて高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも現像時のスカムの発生を抑制可能なパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に感光層を有し、該感光層が重合禁止剤と、バインダーと、炭素数3以上のアルキレンオキシド基を有する重合性化合物と、光重合開始剤とを含むパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。前記非球面は、トーリック面であることが好ましい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を有し、該感光層が炭素数3以上のアルキレンオキシド基を有する重合性化合物と、バインダーと、光重合開始剤とを含むパターン形成材料における該感光層に対し、
光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 529
, G03F7/027 502
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 515B
2H025AA04
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC66
, 2H025BC83
, 2H025CA00
, 2H025CB43
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB12
