特許
J-GLOBAL ID：200903093682065889
露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法及び装置、並びにシミュレーション方法を記録した記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-177068
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031962
出願日： 2003年06月20日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びDOFを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。【解決手段】光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、まず、前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される。次いで、前記アパーチュアを多数のピクセルに分割して、前記アパーチュアのピクセルをフリップさせつつ、フォトリソグラフィシミュレーションを実行して最適の解像度を表すアパーチュア形状を探す段階を含む。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光源、光学レンズ群、フォトマスク及びアパーチュアを含む露光装置のアパーチュアを設計するためのシミュレーション方法であって、
前記フォトマスクのレイアウト情報を入力される段階と、
前記アパーチュアを多数のピクセルに分割する段階と、
前記アパーチュアのピクセルをフリップさせつつ、フォトリソグラフィシミュレーションを実行して最適の解像度を表すアパーチュア形状を探す段階と、を含むことを特徴とする露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514Z
, G03F7/20 521
