特許

J-GLOBAL ID：200903093698626155

ITO粉末、ITO焼結体およびその製造方法

発明者： 山本 和明 ,  隈 公貴 ,  小川 展弘 ,  毛利 隆
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-330812
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188912
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】【構成】 平均粒子径/BET法より求めた比表面積相当径が1〜10、BET法より求めた比表面積相当径/X線解析により求めた結晶子径が2以下である物性をそれぞれ有する、酸化インジウム及び酸化スズを混合してなるITO粉末、及びこの粉末を成形、常圧焼結してなる密度6.8〜7.13g/cm3、結晶粒径1〜20μm、焼結体中の最大気孔が10μm以下のITO焼結体。【効果】 常圧焼結にも拘らず、高密度のITO焼結体が得られる。

請求項（抜粋）：

粒子径測定により求めた平均粒子径とBET法によって求めた比表面積相当径との比(平均粒子径/比表面積相当径)が1〜10であり、BET法によって求めた比表面積相当径とX線解析により求めた結晶子径との比(比表面積相当径/結晶子径)が2以下である物性をそれぞれ有する、酸化インジウムおよび酸化錫を混合してなるITO粉末。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  C01G 15/00 ,  C01G 19/00 ,  C04B 35/64

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高密度ITO焼結体及びスパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143652   出願人：東ソー株式会社
• 低温成膜用ITOタ-ゲツト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-090048   出願人：東ソー株式会社
• 高密度ITOターゲットの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-042870   出願人：日立金属株式会社, 株式会社安来精密
• 特開平4-074860