特許

J-GLOBAL ID：200903093732315202

研磨用組成物

発明者： 宮田 憲彦 ,  洪 公弘 ,  安藤 順一郎
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社 ,  山口精研工業株式会社
代理人 (1件)： 菊地 精一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132738
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147337
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】 磁気ディスク基板等の研磨において、表面粗さが小さく、突起、研磨傷を発生させない研磨組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 水性媒体に砥粒、リンを含む無機酸またはその塩と他の無機酸またはその塩、酸化剤を配合したことを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

水性媒体に砥粒、リンを含む無機酸またはその塩及び他の無機酸またはその塩、酸化剤を配合したことを特徴とする研磨用組成物。

IPC (7件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  B24B 57/02 ,  G11B 5/73 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/304 622

FI (7件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  B24B 57/02 ,  G11B 5/73 ,  G11B 5/84 A ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (13件)：

3C047FF08 ,  3C047GG15 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D112AA02 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 研磨液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-082785   出願人：株式会社東芝, 多摩化学工業株式会社
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-188562   出願人：日産化学工業株式会社
• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-336416   出願人：花王株式会社

審査官引用 (3件)

• 研磨液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-082785   出願人：株式会社東芝, 多摩化学工業株式会社
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-188562   出願人：日産化学工業株式会社
• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-336416   出願人：花王株式会社