特許

J-GLOBAL ID：200903093863970834

セラミック箔にギザギザをつけたプレートとガスアシストとを有する複合型ヒータ

発明者： モスキーニ ローレンス アール.
出願人/特許権者： ブルックス オートメーション インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 藤村 元彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-607787
公開番号（公開出願番号）：特表2002-540610
出願日： 2000年02月18日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：

【要約】チャンバ(34)と、チャンバにガスを加えるデバイスと、基板ヒータとを有する基板加熱装置が提供される。該基板ヒータはチャンバ内に配置されて、底面を有する第1プレート(54)を含む。第1プレートの該底面は少なくとも1つの溝を有する。少なくとも1つの溝は少なくとも2つの熱ゾーンを該第1プレート上に形成する。該基板ヒータはヒータ素子(66)と第2プレート(52)とをさらに含む。該ヒータ素子は第1プレートの底面と第2プレートとの間に配置され、放射とガス伝導とによる基板の加熱を可能にする。

請求項（抜粋）：

チャンバと、前記チャンバ内に配置された基板ヒータと、を含んで基板を加熱する基板加熱装置であって、 前記基板ヒータは、 底面に沿って少なくとも1つの溝のある前記底面を有し、前記少なくとも1つの溝によって少なくとも部分的に互いに隔離された少なくとも2つの個別の熱ゾーンを形成する第1プレートと、 ヒータ素子と、 第2プレートと、を含み、前記少なくとも1つの溝は、前記底面から前記第1のプレートに達している前記少なくとも2つの熱ゾーン間を絶縁する境界を形成し、前記ヒータ素子は、前記第1プレートの前記底面と前記基板を加熱する前記第2プレートとの間に配置されていることを特徴とする基板加熱装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/20 301 ,  H05B 3/74

FI (5件)：

H01L 21/02 Z ,  H05B 3/10 C ,  H05B 3/20 301 ,  H05B 3/74 ,  H01L 21/30 567

Fターム (14件)：

3K034AA04 ,  3K034AA16 ,  3K034BB06 ,  3K034FA14 ,  3K034HA04 ,  3K034JA10 ,  3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092SS12 ,  3K092SS13 ,  3K092VV40 ,  5F046KA04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-087468   出願人：アネルバ株式会社
• サセプタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-115528   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 不活性ガス基板温度調節装置及びその方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-500612   出願人：ブルックスオートメーションインコーポレイテッド
• ガラスセラミックパネルと薄膜リボンヒータ要素を有する基板加熱装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平11-504424   出願人：ブルックスオートメーションインコーポレイテッド