特許
J-GLOBAL ID：200903093879763030

液処理方法及び液処理装置

発明者：
谷山 博己

谷山 博己 について

, 
濱村 直彦

濱村 直彦 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158423
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338903
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 装置の小型化が図れ、かつ、被処理基板にダメージを与えることなく、処理の安全性を図れるようにした液処理方法及び液処理装置を提供すること。【解決手段】 ウエハWに複数の処理液(NH4OH,H2O2,純水)を混合した混合液を供給して処理するに当たって、混合液を供給する際、ウエハWに与えるダメージの少ない処理液順、純水,H2O2,NH4OHに供給することことにより、ウエハWにダメージを与えることなく、処理の安全性を図ることができる。
請求項（抜粋）：
被処理基板に複数の処理液を供給途中で混合した混合液を供給して処理を施す液処理方法であって、上記混合液を供給する際、上記被処理基板に与えるダメージの少ない処理液順に供給することを特徴とする液処理方法。
IPC (5件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 644 B ,  B08B 3/08 A ,  H01L 21/30 572 B
Fターム (19件)：
3B201AA03 ,  3B201AB08 ,  3B201AB33 ,  3B201AB44 ,  3B201AB48 ,  3B201BA02 ,  3B201BA15 ,  3B201BA34 ,  3B201BB05 ,  3B201BB25 ,  3B201BB44 ,  3B201BB55 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CB12 ,  3B201CB25 ,  3B201CC13 ,  5F046MA01 ,  5F046MA10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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