特許

J-GLOBAL ID：200903093910949164

含フッ素共重合体を用いたポジ型レジスト組成物

発明者： 前田 一彦 ,  小森谷 治彦 ,  山中 一広
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-010909
公開番号（公開出願番号）：特開2003-212915
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】【課題】真空紫外線から可視域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性等を併せ持つ新規な含フッ素共重合体と酸発生剤からなるポジ型レジスト組成物の提供。【解決手段】少なくとも一般式(1)で表されるα位にフルアロアルキル基を有するアクリル系単量体、および一般式(2)で表されるビニルエーテルを必須成分とする含フッ素共重合体および酸発生剤からなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

少なくとも一般式(1)で表されるα位にフルアロアルキル基を有するアクリル系単量体、および一般式(2)で表されるビニルエーテルを必須成分とする含フッ素共重合体および酸発生剤からなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1は炭素数1〜4のフルオロアルキル基、R2は水素単独でも良く、またはフッ素原子、ハロゲン原子、酸素原子並びに分岐を含んでも良い炭化水素基または芳香族や脂環式炭化水素を有する環状体であり、R3は、フッ素原子、ハロゲン原子、酸素原子並びに分岐を含んでも良い炭化水素基または芳香族や脂環式炭化水素を有する環状体であって、少なくともR2の一部に酸不安定性基を含有する)。

IPC (4件)：

C08F 2/44 ,  C08F261/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F 2/44 C ,  C08F261/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J011PA90 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA83 ,  4J011SA84 ,  4J011SA87 ,  4J011WA01 ,  4J026AA37 ,  4J026BA05 ,  4J026BA06 ,  4J026BA08 ,  4J026BA24 ,  4J026BA25 ,  4J026BA44 ,  4J026DB06 ,  4J026DB11 ,  4J026DB12 ,  4J026DB32 ,  4J026DB36

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭60-042411
  
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-197475   出願人：富士通株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-098228   出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-332641   出願人：住友化学工業株式会社
• 特開平4-052648