特許
J-GLOBAL ID：200903093983863349

液処理装置および液処理方法

発明者：
太田 義治

太田 義治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-280937
公開番号（公開出願番号）：特開2003-092241
出願日： 2001年09月17日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】 基板に塗布された処理液を短時間で基板上から流し出すことができる液処理装置および液処理方法を提供する。【解決手段】 液処理装置の一実施形態である現像処理ユニット(DEV)24は、LCD基板Gを略水平姿勢で略水平方向に搬送するコロ搬送機構14と、コロ搬送機構14によって搬送されるLCD基板Gに現像液を塗布する現像ノズル51a・51bと、現像液が塗布されてコロ搬送機構14によって搬送されるLCD基板Gを急停止させるブレーキ部材15とを具備する。現像液の塗布されたLCD基板Gをブレーキ部材15を動作させて急停止させ、LCD基板G上の現像液を慣性力を利用してLCD基板Gから流し出す。
請求項（抜粋）：
基板を略水平姿勢で略水平方向に搬送する基板搬送機構と、前記基板搬送機構によって搬送される基板に所定の処理液を塗布する処理液供給機構と、前記処理液が塗布されて前記基板搬送機構によって搬送される基板を急停止させる基板停止機構と、を具備し、前記処理液の塗布された基板を前記基板停止機構を動作させて急停止させることによって、前記基板上の処理液が慣性力によって前記基板から流し出されることを特徴とする液処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 13/02 ,  B05D 3/00 ,  B65G 49/06 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68
FI (6件)：
B05C 13/02 ,  B05D 3/00 C ,  B65G 49/06 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 D
Fターム (51件)：
2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096GA24 ,  2H096GA33 ,  2H096LA30 ,  4D075AC12 ,  4D075AC73 ,  4D075AC77 ,  4D075AC78 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC94 ,  4D075BB14Z ,  4D075BB20Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042CC09 ,  4F042DF07 ,  4F042DF11 ,  4F042DF19 ,  4F042DF33 ,  4F042DF35 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA02 ,  5F031GA35 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA53 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA30 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM