特許
J-GLOBAL ID：200903094235618273
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201334
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021754
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：
【要約】【課題】 周期パターンの露光と通常のパターン露光の2重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 感光基板上の同一領域を互いに異なったパターンで多重露光する露光方法において、多重露光のうちの少なくとも2回の露光で該感光基板上に位置検出マークを形成していること。
請求項（抜粋）：
感光基板上の同一領域を互いに異なったパターンで多重露光する露光方法において、多重露光のうちの少なくとも2回の露光で該感光基板上に位置検出マークを形成していることを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 520 B
