光学素子及びそれを用いた露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-344855
公開番号（公開出願番号）：特開平9-160219
出願日： 1995年12月06日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】半導体露光装置等において偏光を利用して細かいパターンを結像する際に好適な光学素子及びそれを用いた露光装置を得ること。【解決手段】転写するべきパタ-ンの形成された光学素子を用いて前記パタ-ンを基板上に転写する露光装置において、前記露光装置の照明光学系内に存在する前記光学素子の共役面の近傍に、前記パタ-ンの長手方向と等価的な方向に前記露光装置で用いる露光波長近傍の周期を持つ微細周期性パタ-ンを持つ光学部材を配置したこと。

請求項（抜粋）：

転写するべきパタ-ンを形成した光学素子において、該パタ-ンに対し該パタ-ンの長手方向に露光波長近傍の周期を持つ周期性パタ-ンを形成したことを特徴とする光学素子。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 518 , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (5件)

光学マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-176958 出願人：富士通株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-302186 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-345160 出願人：日本電気株式会社

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