特許

J-GLOBAL ID：200903094370574138

アミン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 畠山 潤 ,  小林 知洋 ,  渡辺 武 ,  永田 岳志
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359331
公開番号（公開出願番号）：特開2002-226470
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるアミン化合物。【化1】(式中、R1は炭素数2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基であり、カルボニル基、エーテル基、エステル基又はスルフィド基を1個又は複数個含んでいてもよい。R2は炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基である。R3は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はアルコキシ基であって、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環又はカーボネート基を含んでいてもよい。R2とR3はそれぞれ結合してこれらが結合する酸素原子と共に環を形成してもよい。)【効果】 本発明のレジスト材料は、レジストの膜減り防止に対する効果が高く、解像性とフォーカスマージン拡大効果が高いものである。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるアミン化合物。【化1】(式中、R1は炭素数2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基であり、カルボニル基、エーテル基、エステル基又はスルフィド基を1個又は複数個含んでいてもよい。R2は炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基である。R3は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はアルコキシ基であって、ヒドロキシ基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、ラクトン環又はカーボネート基を含んでいてもよい。R2とR3はそれぞれ結合してこれらが結合する酸素原子と共に環を形成してもよい。)

IPC (10件)：

C07D295/08 ,  C07D295/14 ,  C07D303/22 ,  C07D307/12 ,  C07D307/33 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/38

FI (12件)：

C07D295/08 Z ,  C07D295/14 Z ,  C07D303/22 ,  C07D307/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/30 502 R ,  C07D307/32 Q ,  C07D307/32 G ,  C07D307/32 P

Fターム (37件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  4C037CA07 ,  4C037EA09 ,  4C037FA01 ,  4C048AA01 ,  4C048BB09 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX01 ,  4C048XX04

引用特許：

審査官引用 (10件)

• レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-195065   出願人：信越化学工業株式会社
• N-(2-ニトロベンジルオキシカルボニル)環状アミン類およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-255501   出願人：信越化学工業株式会社
• N,N-ジアルキルカルバミン酸2-ニトロベンジルエステル類およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-255500   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-148742   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 特表昭62-502046
  
• 特開平4-279540
  
• アミンジオールプロテアーゼ抑制剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-201016   出願人：イー・アール・スクイブ・アンド・サンズ・インコーポレイテッド
• 特開昭64-070449
  
• 特許第248940号
  
• 特開昭52-033609
  

引用文献：

審査官引用 (16件)

• Ethers of glycols and their derivatives. LXIX. Synthesis of alkoxymethyl ethers of N-substituted eth
• New analogs of pethidine. IV. Substituents at the 1-position incorporating cyclic ether groups
• Electron impact mass spectrometry of new tris(polyoxalkyl)amines(tridents)
• Lithium 2,2,6,6-Tetramethylpiperidide and Lithium 2,2,4,6,6-Pentamethylpiperidide: Influence of TMED
• Antibiotiki, 1965, Vol.10, No.12, pp.1069-1078
• Recent Advancements In Cycloolefin Based Resists For ArF Lithography.
• Structurally variable cyclopolymers with excellent etch resistance and their application to 193 nm l
• Nicotinomimetic activity of some derivatives of piperidylcholine and its tertiary analogs
• Production technology for a specific substrate of acetylcholinesterase - N-methyl-N-(2-acetoxyethyl)
• Prevention of silicosis, cytoprotective action of some types of synthetic polymers
• Synthesis of some acetylcholine analogs from piperidine
• Potential clinical use of butyric acid derivatives to induce antigen-specific T cell inactivation
• 4-Morpholine alkyl esters and amides possessing antispasmodic activity
• Interactions between the carbonyl group and heteroatom in α-substituted ethyl acetates
• Conformational studies by NMR and temperature variations in di- and trisubstituted ethanes
• Synthesis of Possible Cancer Chemotherapeutic Compounds Based on Enzyme