特許
J-GLOBAL ID：200903094524649152

拡散反射板及びその製造方法と反射型表示装置

発明者：
重野 信行

重野 信行 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-360244
公開番号（公開出願番号）：特開2000-180610
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 拡散効率が高く所望の指向性を備えた拡散反射板の製造方法を提供する。【解決手段】まず、基板2の上に感光性を有する樹脂膜11を形成する第一成膜工程を行なう。次に、離散的に配された領域を規定するパタンP1に従って樹脂膜11を露光した後、個々の領域内で一定方向に偏った部分を規定するパタンP2に従って樹脂膜11を更に露光し異方性を付与する露光工程を行なう。続いて、樹脂膜11を現像して異方性の付与された柱状体を個々の領域毎に形成する現像工程を行なう。そして、加熱処理を施し、個々の柱状体の異方性を残した状態でその形状をなだらかに変形して凹凸層を形成するリフロー工程を行なう。最後に、なだらかに変形した凹凸層の上に金属膜13を形成する第二成膜工程を行なう。
請求項（抜粋）：
基板の上に感光性を有する樹脂膜を形成する第一成膜工程と、離散的に配された領域を規定するパタンに従って該樹脂膜を露光した後、個々の領域内で一定方向に偏った部分を規定するパタンに従って該樹脂膜を更に露光し異方性を付与する露光工程と、該樹脂膜を現像して異方性の付与された柱状体を個々の領域毎に形成する現像工程と、加熱処理を施し、個々の柱状体の異方性を残した状態でその形状をなだらかに変形して凹凸層を形成するリフロー工程と、なだらかに変形した凹凸層の上に金属膜を形成する第二成膜工程とを行なう拡散反射板の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/02 ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/1335 530 ,  G09F 9/00 333
FI (4件)：
G02B 5/02 B ,  G02F 1/1335 520 ,  G02F 1/1335 530 ,  G09F 9/00 333 B
Fターム (31件)：
2H042BA04 ,  2H042BA12 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA16Z ,  2H091FB02 ,  2H091FB08 ,  2H091FC10 ,  2H091FC22 ,  2H091GA02 ,  2H091KA02 ,  2H091LA13 ,  2H091LA16 ,  5G435AA03 ,  5G435BB12 ,  5G435BB16 ,  5G435CC09 ,  5G435EE33 ,  5G435EE37 ,  5G435FF03 ,  5G435FF05 ,  5G435FF06 ,  5G435GG12 ,  5G435HH02 ,  5G435HH12 ,  5G435KK07 ,  5G435LL07
引用特許：
審査官引用 (7件)
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