特許
J-GLOBAL ID:200903094616487248

被膜形成用ポリエステル樹脂

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-110956
公開番号(公開出願番号):特開2006-290959
出願日: 2005年04月07日
公開日(公表日): 2006年10月26日
要約:
【課題】耐摩耗性、溶剤溶解性、可視光線の短波長側領域から紫外線領域における光線透過性に優れた被膜を形成し得るポリエステル樹脂の提供。【解決手段】ジカルボキシジフェニルエーテル構造からなる二価カルボン酸残基と、二価フェノール残基とから構成される被膜形成用ポリエステル樹脂。また、二価フェノール残基が2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン〔ビスフェノールC〕、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1-フェニルエタン〔ビスフェノールAP〕の残基である前記ポリエステル樹脂。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記構造式(1)で示される二価カルボン酸残基と二価フェノール残基とから構成される被膜形成用ポリエステル樹脂。
IPC (2件):
C08G 63/181 ,  C08G 63/199
FI (2件):
C08G63/181 ,  C08G63/199
Fターム (9件):
4J029AA04 ,  4J029AB01 ,  4J029AC01 ,  4J029AE03 ,  4J029BB13A ,  4J029BD09A ,  4J029CF08 ,  4J029JC091 ,  4J029KE09
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
  • 電子写真感光体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-207795   出願人:三菱化学株式会社
  • 特開平3-115324
  • 電子写真感光体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-406783   出願人:三菱化学株式会社
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