特許
J-GLOBAL ID：200903094667496012
細線を有する素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-256045
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326888
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 大きさおよび形成位置がそれぞれ制御された細線を有する素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 Si基板1の上に周期的に配列した複数のSi細線2を成長させる。各細線2の太さはそれぞれ等しくなるように、あるいは適宜異ならせることにより1つの素子で異なった波長の光を発光できるように制御する。この素子は、基板1の上に形成補助膜を形成し各細線2の形成位置に対応してそれに孔をそれぞれ設けた後、金を蒸着し加熱して1つの孔に1つの溶融合金滴をそれぞれ形成し、SiH4 を供給して各溶融合金滴の下に各細線2をそれぞれ成長させる。また、基板1の表面に各細線2の形成位置に対応して突起部をそれぞれ形成し、その上に金を蒸着して各突起部を核として各溶融合金滴をそれぞれ形成したのち、SiH4 を供給して各細線2をそれぞれ成長させてもよい。
請求項（抜粋）：
基板の上に複数の細線を有する素子であって、前記各細線の形成位置がそれぞれ制御されていることを特徴とする細線を有する素子。
IPC (3件)：
H01L 29/06
, H01L 21/20
, H01L 33/00
H01L 29/06
, H01L 21/20
, H01L 33/00 A
