特許
J-GLOBAL ID:200903094675675120
画像形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-377454
公開番号(公開出願番号):特開2006-184512
出願日: 2004年12月27日
公開日(公表日): 2006年07月13日
要約:
【課題】 かぶりのない良好な画像を得ることのできる画像形成装置を提供すること。【解決手段】 直接転写方式の画像形成装置であって、導電性支持体上に、少なくとも導電性金属酸化物と少なくともアクセプター性化合物とを含有する下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層が順次積層されてなる像担持体であり、前記下引き層の体積抵抗は、温度10°C湿度15%RHで106V/mの電場を前記下引き層に印可したとき、1010Ω・cm以上1013Ω・cm以下であり、前記像担持体における被転写媒体が接する領域をA、接しない領域をBとしたとき、前記像担持体に帯電、露光、現像、及び転写を順次行い、一枚印字した次の帯電直後における領域Aの像担持体の電位(V)をV1、領域Bの像担持体の電位(V)をV2とした場合、下記式(i)を満たすことを特徴とする画像形成装置。 式(i); 0<|V1-V2|<150【選択図】 なし
請求項(抜粋):
像担持体と、該像担持体を帯電させる帯電装置と、前記像担持体を露光して静電潜像を形成する露光装置と、前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に直接転写する転写装置とを有する画像形成装置であって、
前記像担持体は、導電性支持体上に、少なくとも導電性金属酸化物とアクセプター性化合物とを含有する下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層が順次積層されてなり、
前記下引き層の体積抵抗は、温度10°C湿度15%RHで106V/mの電場を前記下引き層に印可したとき、1010Ω・cm以上1013Ω・cm以下であり、
前記像担持体に被転写媒体が接する領域をA、接しない領域をBとしたとき、前記帯電装置、露光装置、現像装置、及び転写装置によって、前記像担持体に帯電、露光、現像、及び転写を順次行い、一枚印字した次の帯電直後における前記Aの領域での像担持体の電位(V)をV1、前記Bの領域での像担持体の電位(V)をV2とした場合、下記式(i)を満たすことを特徴とする画像形成装置。
式(i); 0<|V1-V2|<150
IPC (3件):
G03G 15/02
, G03G 5/047
, G03G 5/14
FI (4件):
G03G15/02 102
, G03G5/047
, G03G5/14 101E
, G03G5/14 101F
Fターム (39件):
2H068AA37
, 2H068AA44
, 2H068AA48
, 2H068BA14
, 2H068CA22
, 2H068FA11
, 2H200FA03
, 2H200GA23
, 2H200GA33
, 2H200GA34
, 2H200GA44
, 2H200GA58
, 2H200GA59
, 2H200GB02
, 2H200GB12
, 2H200GB22
, 2H200GB25
, 2H200HA02
, 2H200HA12
, 2H200HA28
, 2H200HA29
, 2H200HB03
, 2H200HB12
, 2H200HB13
, 2H200HB14
, 2H200HB22
, 2H200HB28
, 2H200HB41
, 2H200HB45
, 2H200JA02
, 2H200JA23
, 2H200JA25
, 2H200MA03
, 2H200MA04
, 2H200MA12
, 2H200MA14
, 2H200MA20
, 2H200PA05
, 2H200PA30
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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電子写真用感光体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-259197
出願人:富士電機株式会社
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電子写真用感光体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-149013
出願人:富士電機株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-168732
出願人:キヤノン株式会社
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画像形成装置、およびプロセスカートリッジ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-078263
出願人:富士ゼロックス株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-321100
出願人:新潟富士ゼロックス製造株式会社
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電子写真感光体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-008133
出願人:富士ゼロックス株式会社
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電子写真感光体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-333374
出願人:富士ゼロックス株式会社
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