特許
J-GLOBAL ID：200903094715834316

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
岩戸 薫

岩戸 薫 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-083425
公開番号（公開出願番号）：特開2005-309408
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 PEB温度依存性が小さく、感度、露光ラチチュード、解像力、プロファイルのバランスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(S)で表される化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(S)において、 Arは、アリール基を表す。 R1及びR2は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。R1及びR2は、結合して環を形成してもよい。 Y1及びY2は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。Y1及びY2は、結合して環を形成してもよい。 X-は、式(A1)〜(A2)で表されるアニオンのいずれかを表す。式(A1)〜(A2)において、 Ra1〜Ra5は各々独立に脂肪族炭化水素基を表す。Ra1、Ra2は、互いに結合して環を形成しても良く、また、Ra3〜Ra5の内2個は、互いに結合して環を形成してもよい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式(S)で表される化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (16件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA12
引用特許：
出願人引用 (4件)
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