リソグラフィ装置、照明システム、フィルタ・システム、およびそのようなフィルタ・システムのサポートを冷却するための方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-377813
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191091
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】リソグラフィ装置において、ホイル・トラップを回転させてデブリ粒子を能動的に捉えること、およびホイル・トラップを冷却することができるフィルタ・システムを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、放射線ビームを条件付けるように構成された照明システムと、放射線ビームを基板に投射するように構成された投影システムと、放射線ビームからデブリ粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムとを有する。フィルタ・システムは、デブリ粒子をトラップするための複数のホイルF1,F2と、複数のホイルを保持するためのサポートS1,S2と、冷却されるようになされた表面を有する冷却システムCS1,CS2とを含む。冷却システムおよびサポートは、冷却システムの表面とサポートの間にギャップGが形成されるように互いに位置付けられている。冷却システムはさらに、ギャップにガスを注入するEPようになされている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線ビームを条件付けるように構成された照明システムと、前記放射線ビームを基板に投射するように構成された投影システムと、前記放射線ビームからデブリ粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムとを有するリソグラフィ装置において、前記フィルタ・システムが、前記デブリ粒子をトラップするための複数のホイルと、前記複数のホイルを保持するためのサポートと、冷却されるようになされた表面を有する冷却システムであって、該冷却システムおよび前記サポートが、冷却システムの前記表面と前記サポートとの間にギャップが形成されるように互いに対して位置付けられた冷却システムとを有しており、また前記冷却システムが前記ギャップにガスを注入するようになされているリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531S , G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046AA22 , 5F046CB22 , 5F046DA26 , 5F046GA03 , 5F046GA09 , 5F046GA14 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-205319 出願人：キヤノン株式会社
放射線源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-376283 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-157635 出願人：株式会社ニコン

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