特許
J-GLOBAL ID:200903094745139175

研磨ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安倍 逸郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-050503
公開番号(公開出願番号):特開2002-254305
出願日: 2001年02月26日
公開日(公表日): 2002年09月10日
要約:
【要約】【課題】 研磨中の回転軸の振動を防ぎ、この振動による半導体ウェーハの損傷を抑える研磨ヘッドを提供する。【解決手段】 研磨時、研磨ヘッド10の回転軸16に作用するスラスト荷重とラジアル荷重とは、回転軸16の軸受Xに組み込まれたクロスローラベアリング24が受ける。結果、長期間研磨しても、従来のスラストベアリングとラジアルベアリングとを組み合わせた軸受とは異なり、スラスト荷重を受けるベアリングの磨耗量と、ラジアル荷重を受けるベアリングとの磨耗量とが、常時、略同じになる。よって、研磨中の回転軸16の振動を防止し、この振動によるシリコンウェーハWの損傷などを低減できる。
請求項(抜粋):
ヘッド本体と、該ヘッド本体に設けられ、ウェーハ保持面に半導体ウェーハが保持される保持部材と、軸受を介して、前記ヘッド本体の中央部に回転自在に立設された回転軸と、該回転軸を回転させる回転手段と、前記回転軸を介して、前記ヘッド本体に研磨圧を作用させる加圧手段とを備えた研磨ヘッドにおいて、前記軸受には、前記回転軸に対して軸線方向から作用するスラスト荷重と、前記回転軸に対して軸線方向に直交する方向から作用するラジアル荷重とを受けるクロスローラベアリングが設けられた研磨ヘッド。
Fターム (5件):
3C034AA08 ,  3C034AA13 ,  3C034BB06 ,  3C034BB09 ,  3C034BB73
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • ウエハ研磨装置および研磨方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-333947   出願人:日本電気株式会社
  • 特開昭61-197159
  • 研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-323005   出願人:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
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