特許

J-GLOBAL ID：200903094768312613

研磨パッド用目詰まり防止剤組成物

発明者： 藤井 滋夫 ,  吉田 宏之
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-188722
公開番号（公開出願番号）：特開2003-003156
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】研磨パッドの目詰まりを低減させ、連続研磨においても研磨速度の低下やピット等の表面欠陥の発生を防止し得る研磨パッド用目詰まり防止剤組成物、及び該研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いた被研磨基板の製造方法を提供すること。【解決手段】ニッケルを含有する被研磨物の研磨において用いられる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物であって、OH基又はSH基を有する炭素数2〜20のカルボン酸、炭素数1〜20のモノカルボン酸、炭素数2〜3のジカルボン酸、炭素数2〜3のαアミノ酸、炭素数3〜10のエノール系有機酸及びこれらの塩からなる群より選ばれた1種以上の化合物からなる研磨パッド用目詰まり防止剤を0.01重量%以上2重量%未満と水とを含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物、並びに該研磨パッド用目詰まり防止剤組成物を用いて研磨する被研磨基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

ニッケルを含有する被研磨物の研磨において用いられる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物であって、OH基又はSH基を有する炭素数2〜20のカルボン酸、炭素数1〜20のモノカルボン酸、炭素数2〜3のジカルボン酸、炭素数2〜3のαアミノ酸、炭素数3〜10のエノール系有機酸及びこれらの塩からなる群より選ばれた1種以上の化合物からなる研磨パッド用目詰まり防止剤を0.01重量%以上2重量%未満と水とを含有してなる研磨パッド用目詰まり防止剤組成物。

IPC (5件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/304 622

FI (5件)：

C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 A ,  G11B 5/84 A ,  H01L 21/304 622 M

Fターム (9件)：

3C058AA07 ,  3C058AA19 ,  3C058CB02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112BA05 ,  5D112BA09 ,  5D112GA02 ,  5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-219605   出願人：花王株式会社
• 磁気ディスク基板研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-231724   出願人：昭和電工株式会社
• 研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-012878   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド