光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡崎豊野
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-355331
公開番号（公開出願番号）：特開2004-189602
出願日： 2002年12月06日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、対酸素プラズマ耐性が高く、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。【解決手段】光活性化合物は、下記式(1)で表され、感光剤と組み合わせて使用される。[R-J1-SiO3/2]m[Pro-X-J2-SiO3/2]n (1)(式中、Rは水素原子、置換基で置換されていてもよい炭素数1から20の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、J1、J2は連結基を示し、Pro-X-は光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された疎水性基を示し、mおよびnは整数を表し、m+n=6、8または10である)前記保護基Proは、光照射により、感光剤(特に酸発生剤)と関連して脱離可能であってもよく、この疎水性保護基の脱離により生成するH-X-(Hは水素原子を表す)はヒドロキシル基、カルボキシル基であってもよい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

感光剤と組み合わせて用いられる光活性化合物であって、一般式(1)で表される光活性化合物。 [R-J1-SiO3/2]m[Pro-X-J2-SiO3/2]n (1) (式中、Rは水素原子、置換基で置換されていてもよい炭素数1から20の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、J1、J2は連結基を示し、Pro-X-は光照射に起因して脱離可能な保護基Proで保護された疎水性基を示し、mおよびnは整数を表し、m+n=6、8または10である)

IPC (8件)：

C07F7/08 , C08G77/04 , C08K5/00 , C08L83/04 , C08L101/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (8件)：

C07F7/08 Y , C08G77/04 , C08K5/00 , C08L83/04 , C08L101/00 , G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (81件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H049VN01 , 4H049VP04 , 4H049VQ02 , 4H049VQ28 , 4H049VQ78 , 4H049VR23 , 4H049VR41 , 4H049VR44 , 4H049VU29 , 4J002AA001 , 4J002AB011 , 4J002BB061 , 4J002BC121 , 4J002BD001 , 4J002BE021 , 4J002BE041 , 4J002BF021 , 4J002BG011 , 4J002BG041 , 4J002BG071 , 4J002BG101 , 4J002BG131 , 4J002BQ001 , 4J002CB001 , 4J002CC041 , 4J002CD001 , 4J002CF001 , 4J002CH021 , 4J002CK021 , 4J002CL001 , 4J002CP031 , 4J002CP032 , 4J002EB106 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J246AA03 , 4J246AB06 , 4J246AB07 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246CA01U , 4J246CA010 , 4J246CA52M , 4J246CA520 , 4J246CA53M , 4J246CA530 , 4J246CA58M , 4J246CA58X , 4J246CA580 , 4J246CA63M , 4J246CA63X , 4J246CA630 , 4J246CA66M , 4J246CA660 , 4J246CB08 , 4J246GC21 , 4J246HA15

引用特許：

審査官引用 (3件)

かご状シルセスキオキサン含有皮膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-150069 出願人：コニカ株式会社
パターン形成材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-117688 出願人：松下電器産業株式会社
シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-089441 出願人：新日鐵化学株式会社

前のページに戻る